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  • 華測(cè)-高溫快速爐測(cè)試儀器
    華測(cè)-高溫快速爐測(cè)試儀器

    更新時(shí)間：2023-08-29

    型號(hào)：

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    華測(cè)-高溫快速爐測(cè)試儀器-高溫加熱大都為管式爐或馬弗爐，原理為加熱絲或硅碳棒對(duì)爐體加熱，加熱與降溫速度慢，效率低下，加熱區(qū)域也存在不均勻的現(xiàn)象
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  • HCGL-1000華測(cè)高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測(cè)試儀器
    HCGL-1000華測(cè)高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測(cè)試儀器

    更新時(shí)間：2024-05-29

    型號(hào)：HCGL-1000

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    華測(cè)儀器通過(guò)多年研究開發(fā)了一種高反射率的拋物面與高質(zhì)量的加熱源相配置，在高速加熱高速冷卻時(shí)，具有良好的溫度分布。可實(shí)現(xiàn)寬域均熱區(qū)，高速加熱、高速冷卻，用石英管保護(hù)加熱式樣，無(wú)氣氛污染。同高頻爐相比，不需特殊的安裝條件及對(duì)加熱試樣的要求。同電阻爐一樣安裝簡(jiǎn)單，有冷卻系統(tǒng)可靠。華測(cè)高速加熱冷卻管式爐馬弗爐測(cè)試儀器廠家
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  • 高溫快速爐/功能材料
    高溫快速爐/功能材料

    更新時(shí)間：2023-08-29

    型號(hào)：

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    高溫快速爐/功能材料提高了加熱試驗(yàn)?zāi)芰?。同電阻爐和其他爐相比，紅外線反射爐節(jié)省了升溫時(shí)間和保持時(shí)間及自然冷卻到室溫所需時(shí)間，再試驗(yàn)中也可改寫設(shè)定溫度值。從各方面講，都節(jié)省時(shí)間并提高實(shí)驗(yàn)速度。
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  • HCGL-1000北京華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀
    HCGL-1000北京華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀

    更新時(shí)間：2023-08-09

    型號(hào)：HCGL-1000

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    北京華測(cè)儀器高溫管式爐/測(cè)試儀可以勻速、階梯（升\降溫）、循環(huán)沖擊，真空、氣氛等多種的加熱方式，采用全電子控制技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)控制精度波動(dòng)0.5°C以內(nèi)，溫控精度之高。 加熱速度之快，同時(shí)它可以提供了材料的多的性測(cè)試環(huán)境。
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  • HCGL-1000北京華測(cè)高溫管式爐測(cè)試儀
    HCGL-1000北京華測(cè)高溫管式爐測(cè)試儀

    更新時(shí)間：2023-08-09

    型號(hào)：HCGL-1000

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    北京華測(cè)高溫管式爐測(cè)試儀可以勻速、階梯（升\\降溫）、循環(huán)沖擊，真空、氣氛等多種的加熱方式，采用全電子控制技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)控制精度波動(dòng)0.5°C以內(nèi)，溫控精度之高。 加熱速度之快，同時(shí)它可以提供了材料的多的性測(cè)試環(huán)境。
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  • HCGL-1000華測(cè)高溫管式爐測(cè)試儀
    HCGL-1000華測(cè)高溫管式爐測(cè)試儀

    更新時(shí)間：2023-08-09

    型號(hào)：HCGL-1000

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    華測(cè)高溫管式爐測(cè)試儀可以勻速、階梯（升\降溫）、循環(huán)沖擊，真空、氣氛等多種的加熱方式，采用全電子控制技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)控制精度波動(dòng)0.5°C以內(nèi)，溫控精度之高。 加熱速度之快，同時(shí)它可以提供了材料的多的性測(cè)試環(huán)境。
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  • HCGL-1000高溫管式爐測(cè)試儀
    HCGL-1000高溫管式爐測(cè)試儀

    更新時(shí)間：2023-08-09

    型號(hào)：HCGL-1000

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    高溫管式爐測(cè)試儀可以勻速、階梯（升\\降溫）、循環(huán)沖擊，真空、氣氛等多種的加熱方式，采用全電子控制技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)控制精度波動(dòng)0.5°C以內(nèi)，溫控精度之高。 加熱速度之快，同時(shí)它可以提供了材料的多的性測(cè)試環(huán)境。
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